摘要：從微弧氧化技術(shù)的基本原理、功能陶瓷涂層設(shè)計(jì)制備與使役性能角度綜述了最新的研究進(jìn)展：介紹了微弧氧化涂層的生長過程與形成機(jī)理;討論了關(guān)鍵工藝參數(shù)（電解液組成、電參數(shù)）及金屬基體成分對涂層生長及膜基結(jié)合強(qiáng)度的影響;基于抗磨減摩、耐腐蝕、熱防護(hù)、熱控、介電絕緣、催化、生物等特殊功能化需求,探討了涂層成分/結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),以及如何控制工藝/組成/結(jié)構(gòu)獲取高性能功能化涂層。最后,指出了微弧氧化技術(shù)面臨的挑戰(zhàn),并從基礎(chǔ)理論、涂層工藝和工程應(yīng)用等方面展望了其未來的發(fā)展方向。