摘要：本文歸納了碳化硼薄膜的主要特性以及近年來在功能陶瓷、熱電元件等方面的廣泛應用?？偨Y了目前物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)技術制備碳化硼薄膜的主要方法,包括磁控濺射法、離子束蒸鍍法、經典化學氣相沉積法(c-CVD)、等離子增強化學氣相沉積法(PECVD、激光化學氣相沉積法(LCVD)和熱絲化學氣相沉積法(HFCVD)等,討論了各種沉積技術制備碳化硼薄膜工藝中各種實驗參數(shù)對薄膜生長過程的影響,并對該領域今后的研究方向進行了展望。