一種ZIF-8/有機硅雜化膜的制備及性能研究
作者：嚴浩軍; 張帥; 杜紅斌; 趙亞云; 張秋菊; 林貽超; 孔春龍 寧波市電力設計院有限公司; 寧波315200; 中國科學院寧波材料技術(shù)與工程研究院; 寧波315201
摘要：常規(guī)ZIF-8膜制備方式主要是原位合成法、晶種二次法等,但是在膜制備過程中都存在一定的缺陷,主要是由于水熱合成存在溶劑熱以及膜層與無機材料表面之間結(jié)合能力差等原因.以有機硅為膜基底,摻雜ZIF-8填充劑,采用兩步法制備了穩(wěn)定且具有較高氣體分離性能的ZIF-8/有機硅雜化膜,通過掃描電鏡(SEM)、粉末衍射(PXRD)等對不同ZIF-8摻雜比例制備的膜進行了分析表征,并考察了其對膜氣體分離性能的影響.結(jié)果發(fā)現(xiàn),經(jīng)兩步浸漬提拉后,膜表面均勻致密、無裂痕缺陷.當有機硅與ZIF-8質(zhì)量比1∶1時,雜化膜的性能更為優(yōu)異,H2/CH4在150℃時理想選擇性系數(shù)為47.6,H2∶CH4(1∶1)混合氣的分離因子為34.5.
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